F00100 - SEMI F1 - Specification for Leak Integrity of High-Purity Gas Piping Systems and Components StdTpc-XML 注意： 本文書は、2006年、全面的に書き換えられた。

注意：　本文書は、2006年、全面的に書き換えられた。

SEMI M21-0304 (technical revision)

SEMI G18-89 (technical revision)

Unpolished wafers or wafers with epitaxial films are not covered

分散オブジェクト通信 － CIMフレームワークインタフェースをサポートしている実装が，分散されていると思われる他の実装の場所をトランスペアレントに特定し，スタンダードなCIMフレームワークオペレーションを要求するメッセージを交換するための基本的なサービスを提供する。インタフェース定義言語（IDL）は統合および相互運用の準備が整った準拠実装に自動的に変換できるCIMフレームワークインタフェースの形式を規定する。

F00100 - SEMI F1 - Specification for Leak Integrity of High-Purity Gas Piping Systems and Components StdTpc-XML 注意： 本文書は、2006年、全面的に書き換えられた。This Specification defines the leak testing requirements and leakage rates for high purity gas piping systems and components used in semiconductor manufacturing. It is also intended as an aid in the procurement and installation of equipment, materials, and services. This Specification applies to high purity gas piping systems and components used in semiconductor manufacturing facilities and comparable research and development areas. It includes