C00607 - SEMI C6.7 - 高圧ガスシリンダ中のグレード10/0.2窒素に対するパーティクル仕様 Revision:SEMI C6.7-93 (Reapproved 1111) - Replaced This standard will specify measurement

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SEMI T7 — Specification for Back Surface Marking of Double-sided Polished Wafers with a Two-Dimensional Matrix Code Symbol

本スタンダードは，Gases Global Technical Committeeで技術的に承認されている。現版は2011年9月12日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2011年11月にwww

FPD製造に使用するプロセスツールのツールポートに関わる主要な要求事項を規定する。これらの主要要求事項は，それらを標準化することによって，搬送装置とツール間のインタフェースをうまく機能することにある。この標準化は，マテリアルハンドリング装置の選択に自由度を持たせて，コスト低減に配慮したインタフェースを奨励することを目的とする。

C00607 - SEMI C6.7 - 高圧ガスシリンダ中のグレード10/0.2窒素に対するパーティクル仕様 Revision:SEMI C6.7-93 (Reapproved 1111) - Replaced This standard will specify measurementNOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version. SEMI SEMI Gases Global Technical Committee2011912global Audits and Reviews Subcommittee201111www. semiviews. org www. semi. org1993200211 NOTICE: This Document is no longer supported by the global technical committee. It has been replaced by