Surface Preparation & Cleaning Conference (SPCC) 2026 StdTpc-Jig ID このスタンダードでは，ウェーハまたはバルクシリコン試料の評価用としてそれぞれ2種類ずつ，合計4種類の測定方法論を記述する。いずれの測定法も，無線周波数と照射光源で励起した誘導コイル（渦電流）センサを用いて実行する。2種類の方法ではQSSPC法を用いる。この技法では光生成を測定するため，光度検出器が必要である。また，用いるべき校正方法についても本文書の範囲内で取り上げる。

このスタンダードでは，ウェーハまたはバルクシリコン試料の評価用としてそれぞれ2種類ずつ，合計4種類の測定方法論を記述する。いずれの測定法も，無線周波数と照射光源で励起した誘導コイル（渦電流）センサを用いて実行する。2種類の方法ではQSSPC法を用いる。この技法では光生成を測定するため，光度検出器が必要である。また，用いるべき校正方法についても本文書の範囲内で取り上げる。

SEMI C82 — Test Method for Particle Removal Performance of Liquid Filter Rated 20 to 50 nm with Liquid-Borne Particle Counter

6が追加されたことにより，0703の出版サイクルで改訂されたものである。

SEMI E90-0703 (technical revision)

pin configurations

Surface Preparation & Cleaning Conference (SPCC) 2026 StdTpc-Jig ID このスタンダードでは，ウェーハまたはバルクシリコン試料の評価用としてそれぞれ2種類ずつ，合計4種類の測定方法論を記述する。いずれの測定法も，無線周波数と照射光源で励起した誘導コイル（渦電流）センサを用いて実行する。2種類の方法ではQSSPC法を用いる。この技法では光生成を測定するため，光度検出器が必要である。また，用いるべき校正方法についても本文書の範囲内で取り上げる。