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Bei tieferer Gravur entstehen Rauch und Partikel
Als CW-Quelle liefert die RFL-C20000M-CE kontinuierliche Laserstrahlung
Seele geknickt
Diese Variante wird mit einer Maxphotonics X Series Quelle ausgeliefert
Eine Schutzglaskassette schützt die Optik gegen Spritzer und Prozessrauch
JPT YDFLP-E2-60-M7-M-R Lasergravur Bei tieferer Gravur entstehen RauchDie JPT YDFLP E2 60 M7 M R ist eine gepulste Faserlaserquelle in MOPA Architektur mit 60 W mittlerer Ausgangsleistung. Sie gehrt zur luftgekhlten M7 Serie (20100 W) und ist als OEM Komponente fr den Einbau in Markier , Gravier und Reinigungssysteme ausgelegt. Die Ansteuerung erfolgt ber gngige Markiersoftware wie EZCAD. Technische Einordnung MOPA steht fr Master Oscillator Power Amplifier. Anders als bei Q Switch Quellen lassen sich Pulsdauer und
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